高分子吸波隱身材料研磨分散機(jī),高分子吸波隱身材料生產(chǎn)設(shè)備,高分子高分子吸波材料研磨分散機(jī),高分子高分子吸波材料生產(chǎn)設(shè)備,高分子吸波涂料研磨分散機(jī),高分子吸波涂料生產(chǎn)設(shè)備
高分子是一種二維材料,具有優(yōu)異的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。由于高分子是納米級(jí),具有新的性能。根據(jù)理論推導(dǎo),高分子會(huì)吸收πα≈2.3%的白光(α指精細(xì)結(jié)構(gòu)場(chǎng)數(shù))。目前,高分子作為電磁干擾吸波材料在都處于起步階段。而相關(guān)研究表明,高分子所具備的片貌相對(duì)于棒狀狀形或球狀對(duì)材料的吸波性更加有利。
高分子吸波隱身材料,高分子高分子吸波材料,高分子吸波涂料,產(chǎn)品達(dá)到到意想不到的屏蔽效果。吸波材料,指能吸收投射到它表面的電磁波能量的一類材料。在本產(chǎn)品,除要求吸波材料在較寬頻帶內(nèi)對(duì)電磁波具有高的吸收率外,還要求它具有質(zhì)量輕、耐溫、耐濕抗腐蝕等性能。吸波材料性能優(yōu)勢(shì)PVA/高分子: 60.1 db (x波段)
吸波材料用途
電磁吸波材料適用于手機(jī)、FPC、電腦、IC芯片、LCD/數(shù)
碼攝像機(jī)主板,PDP/數(shù)碼相機(jī)等各種排線。
上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤??筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前國(guó)x設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
從設(shè)備角度來(lái)分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計(jì)算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子
間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~
0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)總線重要因素,高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得細(xì)微懸浮液是總線重要的
研磨分散機(jī)的優(yōu)勢(shì):
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念,將先x的技術(shù)與創(chuàng)x的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中,為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.
新結(jié)構(gòu) 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,高線速度的吸料式葉輪提供強(qiáng)切割力
更可靠 采用整體式機(jī)械密封,總線大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問(wèn)題,安裝與更換方便快捷.
新技術(shù) 采用國(guó) x先x的受控切割技術(shù),將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及細(xì)濕法粉碎的要求.
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