KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列
圖片
簡介
法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經驗,其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統(tǒng),結構緊湊,可以直接放置在實驗臺上,能夠處理*直徑4英寸的晶圓,兼容硬接觸(接觸式)或者軟接觸(接近式)工藝,可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要預熱,也不需要單獨的冷卻單元。另外,UV-KUB系列*的設計,保證了光源的準直性和均勻性,其*小分辨率可達2μm,*發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠,如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
規(guī)格參數(shù)
功能圖解
UV-KUB 2型光刻機,是國際市場上*款采用UV-LED光源系統(tǒng)的光刻機,其配備了基于LED光源的光學頭,使用壽命大大提高,結構小巧,高,非常適合實驗室應用。
UV-KUB 3是一款帶對位功能的UV-LED曝光機,光源為365nm,其觸摸屏和CCD相機代替了傳統(tǒng)的顯微鏡及雙筒目鏡,控制器提供了圖像捕獲、測量以及對齊坐標的記錄等功能,可以實現(xiàn)預對準,這樣,用戶再通過操作手柄便能方便的進行*終的對準操作。
UV-KUB 2
UV-KUB 3
應用系統(tǒng)
微流控芯片
MEMS器件
相關下載
http://www.beijingec.com/companyfile/72.html
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KLOE 微流控芯片光刻機/曝光機 UV-KUB系列
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法國KLOE公司在光刻方面有著豐富的經驗,其研發(fā)的UV- KUB系列光刻機是一種基于UV LED的曝光機系統(tǒng),結構緊湊,可以直接放置在實驗臺上,能夠處理*直徑4英寸的晶圓,兼容硬接觸(接觸式)或者軟接觸(接近式)工藝,可自動調整掩膜高度以適應不同的基板厚度,可使用365 nm或405 nm的光源,不需要預熱,也不需要單獨的冷卻單元。另外,UV-KUB系列*的設計,保證了光源的準直性和均勻性,其*小分辨率可達2μm,*發(fā)散角小于2°
本系統(tǒng)適用于市面上常用的光刻膠,如AZ系列、Shipley系列、SU-8系列和K-CL系列。
規(guī)格參數(shù)
功能圖解
UV-KUB 2型光刻機,是國際市場上*款采用UV-LED光源系統(tǒng)的光刻機,其配備了基于LED光源的光學頭,使用壽命大大提高,結構小巧,高,非常適合實驗室應用。
UV-KUB 3是一款帶對位功能的UV-LED曝光機,光源為365nm,其觸摸屏和CCD相機代替了傳統(tǒng)的顯微鏡及雙筒目鏡,控制器提供了圖像捕獲、測量以及對齊坐標的記錄等功能,可以實現(xiàn)預對準,這樣,用戶再通過操作手柄便能方便的進行*終的對準操作。
UV-KUB 2
UV-KUB 3
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微流控芯片
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