價(jià)格
電議
型號(hào)
HI84100
品牌
HANNA
所在地
廣東省 深圳市
更新時(shí)間
2019-03-07 16:55:02
瀏覽次數(shù)
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京公網(wǎng)安備 11010802023672號(hào)
HI84100采用滴定分析方法快速測量殘留二氧化硫和二氧化硫含量。在食品加工領(lǐng)域，二氧化硫的主要應(yīng)用是進(jìn)行防腐。以葡萄酒為例，當(dāng)有氧存在時(shí)將先與二氧化硫發(fā)生反映，起到抗氧化的作用，進(jìn)而保證酵母菌的正常發(fā)酵，并抑制其他雜菌。
主要性能特點(diǎn)
* 基于微電腦控制技術(shù)，集滴定分析，磁力攪拌和電極測量于一體。
* 性能優(yōu)良操作簡單，可直接顯示測量結(jié)果。
* 人性化設(shè)計(jì)，具有穩(wěn)定標(biāo)識(shí)和校準(zhǔn)信息等顯示功能。
* 殘留二氧化硫濃度取決于三個(gè)因素：添加量，原初始量，添加的氧化程度。
* 通常殘留二氧化硫濃度為0.8ppm即可保證抗氧化和凈化雜菌的作用。
* 當(dāng)殘留濃度過2.0ppm時(shí)，即被人感知到，因此以此濃度作為上限值。
HI84100食品二氧化硫滴定分析儀 Sulfur Dioxide Mini Titrator
測量項(xiàng)目
技術(shù)參數(shù)描述
測量范圍
0 to 400 ppm (mg/L) SO2
解析度
1 ppm (mg/L)
測量精度
讀數(shù)的5%
測量方法
滴定法
測量原理
等電位氧化還原滴定法
樣品取樣量
50 mL
氧化還原電極類型
HI 3148B/50食品玻璃復(fù)合氧化還原電極，電極適用溫度范圍：20 to 40°C
定量泵設(shè)置
流量設(shè)置為：0.5 mL/min
磁力攪拌設(shè)置
攪拌速率設(shè)置為：1500 rpm
適用環(huán)境
0 to 50°C（32 to 122°F）；max 95% RH 無冷凝
電源模式
AC230V/60 Hz；10VA
尺寸重量
主機(jī)尺寸：208 x 214 x 163 mm 主機(jī)重量：2200 g
pH值與游離二氧化硫轉(zhuǎn)換關(guān)系
相關(guān)項(xiàng)目
pH值與游離二氧化硫轉(zhuǎn)換對(duì)應(yīng)值
pH值
3.0pH
3.1 pH
3.2 pH
3.3 pH
3.4 pH
3.5 pH
3.6 pH
3.7 pH
3.8 pH
3.9 pH
游離二氧化硫（ppm）
4
55
69
87
109